一、引言
在材料測(cè)試與工程應(yīng)用領(lǐng)域，錯(cuò)動(dòng)折彎測(cè)試設(shè)備發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，而其中的應(yīng)變測(cè)量功能更是為深入了解材料在折彎過(guò)程中的力學(xué)行為提供了關(guān)鍵數(shù)據(jù)支持。準(zhǔn)確掌握應(yīng)變測(cè)量功能的實(shí)現(xiàn)方式，對(duì)于科研人員、工程師以及相關(guān)從業(yè)者精準(zhǔn)評(píng)估材料性能、優(yōu)化產(chǎn)品設(shè)計(jì)等都有著不可忽視的意義。本文將詳細(xì)探討錯(cuò)動(dòng)折彎測(cè)試設(shè)備應(yīng)變測(cè)量功能是如何實(shí)現(xiàn)的，剖析其背后涉及的關(guān)鍵技術(shù)與原理。
二、應(yīng)變測(cè)量的重要性
在錯(cuò)動(dòng)折彎測(cè)試中，材料會(huì)經(jīng)歷復(fù)雜的受力變形過(guò)程。應(yīng)變作為描述材料受力時(shí)形狀改變程度的物理量，能夠直觀反映材料的彈性、塑性等力學(xué)特性。通過(guò)對(duì)應(yīng)變的精確測(cè)量，可以幫助我們判斷材料在折彎過(guò)程中的屈服極限、強(qiáng)度極限，了解其是否會(huì)出現(xiàn)裂紋、斷裂等情況，進(jìn)而為材料的選型、工藝優(yōu)化以及質(zhì)量控制等環(huán)節(jié)提供量化依據(jù)。例如，在航空航天領(lǐng)域的金屬結(jié)構(gòu)件生產(chǎn)中，精確的應(yīng)變測(cè)量能確保構(gòu)件在復(fù)雜的飛行工況下具備可靠的力學(xué)性能，保障飛行安全。
三、應(yīng)變測(cè)量功能實(shí)現(xiàn)的基本原理
(一)應(yīng)變片原理
錯(cuò)動(dòng)折彎測(cè)試設(shè)備常用應(yīng)變片來(lái)實(shí)現(xiàn)應(yīng)變測(cè)量。應(yīng)變片基于金屬絲或半導(dǎo)體材料的電阻應(yīng)變效應(yīng)，即當(dāng)材料受到外力作用發(fā)生應(yīng)變時(shí)，其電阻值會(huì)相應(yīng)地發(fā)生改變。通常將應(yīng)變片牢固粘貼在測(cè)試材料的表面，在材料折彎過(guò)程中，應(yīng)變片隨材料一同變形，導(dǎo)致自身電阻變化，再通過(guò)惠斯通電橋電路將電阻變化轉(zhuǎn)化為可測(cè)量的電壓信號(hào)，以此來(lái)間接獲取材料的應(yīng)變情況。例如，在金屬薄板的錯(cuò)動(dòng)折彎測(cè)試中，應(yīng)變片緊密貼合薄板表面，精確捕捉折彎時(shí)薄板的拉伸或壓縮應(yīng)變引起的電阻變化，進(jìn)而推算出應(yīng)變數(shù)值。
(二)光學(xué)測(cè)量原理
除了應(yīng)變片，光學(xué)測(cè)量方法也被廣泛應(yīng)用于應(yīng)變測(cè)量中。其中，數(shù)字圖像相關(guān)(DIC)技術(shù)較為常見。其原理是在測(cè)試材料表面制作隨機(jī)散斑圖案，然后利用高速攝像機(jī)在材料折彎過(guò)程中連續(xù)拍攝圖像，通過(guò)對(duì)比不同時(shí)刻圖像中散斑圖案的位移變化，利用相關(guān)算法計(jì)算出材料表面各點(diǎn)的位移場(chǎng)，再進(jìn)一步通過(guò)位移與應(yīng)變的關(guān)系推導(dǎo)出應(yīng)變數(shù)據(jù)。這種方法的優(yōu)勢(shì)在于非接觸式測(cè)量，不會(huì)對(duì)待測(cè)材料產(chǎn)生附加影響，且能夠獲取大面積的應(yīng)變分布情況，適合對(duì)復(fù)雜形狀或易損材料的應(yīng)變測(cè)量，如在復(fù)合材料的折彎測(cè)試中可清晰呈現(xiàn)其內(nèi)部不同纖維層的應(yīng)變差異。
四、關(guān)鍵技術(shù)與實(shí)現(xiàn)細(xì)節(jié)
(一)應(yīng)變片的選型與粘貼技術(shù)
選型：根據(jù)測(cè)試材料的類型(如金屬、塑料、復(fù)合材料等)、預(yù)計(jì)應(yīng)變范圍以及測(cè)試環(huán)境(溫度、濕度等)來(lái)選擇合適的應(yīng)變片。例如，對(duì)于高溫環(huán)境下的金屬材料折彎測(cè)試，需選用耐高溫的金屬箔式應(yīng)變片；對(duì)于微小應(yīng)變測(cè)量場(chǎng)景，則可選用靈敏度更高的半導(dǎo)體應(yīng)變片。
粘貼：應(yīng)變片的粘貼質(zhì)量直接影響測(cè)量精度。要確保粘貼表面清潔、平整，采用專用的膠水按照規(guī)范的工藝進(jìn)行粘貼，同時(shí)要注意避免粘貼過(guò)程中產(chǎn)生氣泡、褶皺等情況，粘貼后還需進(jìn)行固化處理，并進(jìn)行必要的防護(hù)，防止在測(cè)試過(guò)程中應(yīng)變片脫落或受到外界干擾。
(二)惠斯通電橋電路的搭建與校準(zhǔn)
搭建：惠斯通電橋由四個(gè)電阻臂組成，其中一個(gè)或多個(gè)電阻臂采用應(yīng)變片。合理搭建電橋電路，根據(jù)不同的測(cè)量需求選擇合適的電橋連接方式(如半橋、全橋等)，可以提高測(cè)量的靈敏度和準(zhǔn)確性。例如，全橋連接方式相比半橋在相同應(yīng)變情況下能輸出更大的電壓信號(hào)，更有利于小應(yīng)變的精確測(cè)量。
校準(zhǔn)：為了確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性，需要對(duì)電橋電路進(jìn)行校準(zhǔn)。通過(guò)已知標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)變的校準(zhǔn)試件，對(duì)電橋輸出的電壓信號(hào)與實(shí)際應(yīng)變的對(duì)應(yīng)關(guān)系進(jìn)行標(biāo)定，消除電路本身的誤差以及應(yīng)變片初始阻值差異等因素帶來(lái)的影響，使得測(cè)量得到的應(yīng)變數(shù)據(jù)真實(shí)可靠。
(三)光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)的配置與數(shù)據(jù)處理
配置：光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)中的高速攝像機(jī)要具備足夠高的分辨率、幀率以及良好的光學(xué)性能，以清晰捕捉材料表面散斑圖案的細(xì)微變化。同時(shí)，照明系統(tǒng)要保證光照均勻且穩(wěn)定，避免光照不均造成圖像質(zhì)量下降影響測(cè)量結(jié)果。
數(shù)據(jù)處理：獲取到的圖像數(shù)據(jù)需要經(jīng)過(guò)專業(yè)的圖像處理軟件進(jìn)行處理。軟件中內(nèi)置的數(shù)字圖像相關(guān)算法要能夠準(zhǔn)確識(shí)別散斑圖案的位移，并且通過(guò)合理的數(shù)學(xué)模型將位移轉(zhuǎn)化為應(yīng)變。此外，還需要對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波、去噪等預(yù)處理操作，提高應(yīng)變數(shù)據(jù)的質(zhì)量，并且可以通過(guò)可視化界面將應(yīng)變分布以直觀的云圖等形式展示出來(lái)，方便分析解讀。
五、誤差來(lái)源及補(bǔ)償措施
(一)溫度影響
溫度變化會(huì)導(dǎo)致應(yīng)變片自身電阻改變以及材料熱膨脹等問(wèn)題，從而對(duì)應(yīng)變測(cè)量產(chǎn)生誤差。為了補(bǔ)償溫度影響，可以采用溫度自補(bǔ)償應(yīng)變片，或者在測(cè)量電路中設(shè)置溫度補(bǔ)償電路，通過(guò)測(cè)量溫度變化并利用相應(yīng)的補(bǔ)償算法對(duì)應(yīng)變數(shù)據(jù)進(jìn)行修正，確保測(cè)量結(jié)果不受溫度波動(dòng)的干擾。
(二)非線性誤差
應(yīng)變片的電阻應(yīng)變關(guān)系在較大應(yīng)變范圍或復(fù)雜受力情況下可能呈現(xiàn)非線性，惠斯通電橋輸出電壓與應(yīng)變也并非線性關(guān)系，這會(huì)帶來(lái)測(cè)量誤差。對(duì)此，可以通過(guò)采用高精度的線性化電路、優(yōu)化電橋配置以及在數(shù)據(jù)處理階段進(jìn)行非線性擬合修正等方法來(lái)降低非線性誤差，提高應(yīng)變測(cè)量的線性度和精度。
(三)測(cè)量噪聲
無(wú)論是應(yīng)變片測(cè)量中的電信號(hào)噪聲還是光學(xué)測(cè)量中的圖像噪聲，都會(huì)影響應(yīng)變測(cè)量的準(zhǔn)確性?？梢酝ㄟ^(guò)采用屏蔽電纜、良好的接地措施以及在信號(hào)調(diào)理電路中設(shè)置濾波環(huán)節(jié)來(lái)減少電信號(hào)噪聲；對(duì)于光學(xué)測(cè)量中的圖像噪聲，則可以利用圖像增強(qiáng)、降噪算法等進(jìn)行處理，提高應(yīng)變測(cè)量的可靠性。
六、結(jié)論
錯(cuò)動(dòng)折彎測(cè)試設(shè)備的應(yīng)變測(cè)量功能是通過(guò)多種原理和關(guān)鍵技術(shù)協(xié)同實(shí)現(xiàn)的。應(yīng)變片與光學(xué)測(cè)量方法各有優(yōu)劣，在實(shí)際應(yīng)用中需根據(jù)具體的測(cè)試需求合理選擇并優(yōu)化相關(guān)技術(shù)細(xì)節(jié)。同時(shí)，充分認(rèn)識(shí)并有效補(bǔ)償各種誤差來(lái)源，才能確保應(yīng)變測(cè)量功能輸出準(zhǔn)確、可靠的應(yīng)變數(shù)據(jù)，為錯(cuò)動(dòng)折彎測(cè)試以及材料性能研究、產(chǎn)品質(zhì)量把控等工作提供有力的技術(shù)支撐，推動(dòng)相關(guān)領(lǐng)域不斷向前發(fā)展。
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更新時(shí)間：2024-11-28 
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